btx 47-0003說明書
BTXPRESS CYTOPORATION LOW CONDUCTIVITY MEDIUM T4, 500 ML VOLUME
btxpress細(xì)胞培養(yǎng)低導(dǎo)電介質(zhì)t4,500毫升體積
先進(jìn)的電穿孔緩沖液設(shè)計用于BTX AgilePulse MAX大容量電穿孔系統(tǒng),用于離體或體外遞送DNA,RNA,寡核苷酸和siRNA
產(chǎn)品 | 項目# | |
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BTXpress Cytoporation低電導(dǎo)率培養(yǎng)基T4,500毫升體積 | 47-0003 |
BTXpressCactoporation®MediaT4是一種先進(jìn)的電穿孔緩沖液,設(shè)計用于BTX AgilePulse MAX大容量電穿孔系統(tǒng),用于離體或體外遞送DNA,RNA,寡核苷酸和siRNA。低電導(dǎo)率緩沖液經(jīng)過特殊配方,可大限度地減少大體積電穿孔過程中溶液的加熱,從而實(shí)現(xiàn)高轉(zhuǎn)染效率和高細(xì)胞活力。BTXpress Cytoporation Media T4從高質(zhì)量的非動物醫(yī)用級試劑中無菌過濾。兩種具有不同電導(dǎo)率的制劑可用于每種真核細(xì)胞類型的宜電導(dǎo)率??梢詫⒕彌_液直接稀釋在*生長培養(yǎng)基中用于電穿孔后細(xì)胞培養(yǎng)。
特點(diǎn)與優(yōu)勢
存儲信息
打開后儲存在2-8°C。在-20°C至+ 50°C下短期儲存(即運(yùn)輸)7天是可以接受的。內(nèi)容可能在凍結(jié)后分開。如果冷凍,請在使用前充分混合。
建議使用
建議使用標(biāo)準(zhǔn)的無菌技術(shù),以避免在使用過程中受到污染。*,反復(fù)洗凈。BTXpressCytofusion®MediumC是一種低電導(dǎo)率培養(yǎng)基,專為電融合而設(shè)計。痕量的高電導(dǎo)率溶液如PBS或組織培養(yǎng)生長培養(yǎng)基可破壞融合過程。因此,在融合過程之前用BTXpressCytofusion®MediumC*清洗細(xì)胞至關(guān)重要。對于多5 x 107個細(xì)胞,建議在BTXpressCytofusion®培養(yǎng)基C中至少洗滌兩次。對于超過5 x 107個細(xì)胞,建議至少洗滌三次。
*清潔電融合室。為避免其他離子污染源,每次使用后清潔電熔室,并用無菌去離子水*沖洗。
為了大限度地提高細(xì)胞融合效率,請在室溫下使用BTXpressCytofusion®MediumC. 終洗滌之前的細(xì)胞洗滌可以在4℃下進(jìn)行。雖然Cytofusion®MediumC無毒,但它不含有長期支持細(xì)胞活力的營養(yǎng)素。為獲得宜效果,請盡量減少細(xì)胞懸浮于BTXpressCytofusion®培養(yǎng)基C中的時間。不建議將細(xì)胞保留在BTXpressCytofusion®MediumC中,后一次洗滌后超過1小時。
電融合后,BTXpressCytofusion®培養(yǎng)基中的細(xì)胞可在細(xì)胞培養(yǎng)基中稀釋,無需洗滌細(xì)胞。將五份*培養(yǎng)基稀釋至一份BTXpressCytofusion®MediumC的低稀釋度?;蛘撸梢栽谏L培養(yǎng)基中洗滌細(xì)胞以在培養(yǎng)之前*除去BTXpress Cytofusion?培養(yǎng)基C.
警告和免責(zé)聲明
如果缺少防篡改密封或瓶子損壞,請勿使用。瓶子損壞或故意篡改可能會導(dǎo)致本產(chǎn)品受到污染。使用前檢查產(chǎn)品是否清晰。BTXpressCytofusion®培養(yǎng)基僅用于研究和研究目的。它不適合人類使用。根據(jù)OSHA危害通信標(biāo)準(zhǔn)29 CFR 1910.1200進(jìn)行的評估,該產(chǎn)品不被視為危險品。
體積 | 500毫升 |
滲透壓 | 270至290 mOsm / L. |
電導(dǎo)率@ 25°C | 3.45±0.05 mS / cm |
pH值 | 7.2±0.2 |
核糖核酸酶 | 沒有檢測到 |
DNA酶 | 沒有檢測到 |
內(nèi)毒素 | <0.25 EU / m |
不育癥 | 無菌過濾 |
存儲 | 2至8°C |
保質(zhì)期 | 自生產(chǎn)之日起18個月 |
應(yīng)用 轉(zhuǎn)染